一種用于半導體廠房的潔凈室的制作方法

一種用于半導體廠房的潔凈室的制作方法

【專利摘要】本實用新型公開了一種用于半導體廠房的潔凈室，包括一大型潔凈空間及回風通道；大型潔凈空間從上到下包括架構空間、潔凈空間和循環空間，所述循環空間內設有生產輔助設備；所述循環空間內設置生產輔助設備的區域的四周均設有隔板，使其構成獨立的密閉空間；在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少1個回風柱，所述回風柱的頂端與架構空間連通，其底端與高架地板連通；所述回風柱內設有風機。本實用新型解決了生產輔助設備易產生泄漏的問題；與此同時，在潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設置多個回風柱，通過回風柱實現氣流循環，同時還充分利用了其內的潔凈空氣，而且降低了消耗。

【專利說明】一種用于半導體廠房的潔凈室

【技術領域】

[0001]本實用新型涉及一種用于半導體廠房的潔凈室，是指用于半導體的生產場合。

【背景技術】

[0002]半導體廠房是專門用來制備半導體器件的地方，目前已經得到了廣泛應用。由于半導體器件的特殊性，要求半導體廠房必須設計成潔凈室，以滿足恒溫恒濕以及潔凈度等要求。對于一些高端半導體的生產廠房，如32/28nm，甚至以下的高端制程，不但對潔凈度的要求較高，且對漂浮于空氣中的懸浮化學分子氣體污染更為嚴格。

[0003]現有的用于半導體廠房的潔凈室參見附圖1所示，主要包括新風輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間，所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間4、潔凈空間5和循環空間6，架構空間和潔凈空間之間設有天花板7，潔凈空間和循環空間之間設有高架地板2和混凝土板3。

[0004]所述大型潔凈空間內設有各種加工設備，在循環空間(又稱技術夾層)內會設有各種生產輔助設備1，如真空泵、冷凍機等，實際應用發現:真空泵會因為震動而松脫，導致氣體泄漏；冷凍機的配管在清洗過程中因未鎖緊或接頭松動而泄漏腐蝕性氣體。在以往的案例中，尤其是干刻蝕區會經常發生上述事故，導致腐蝕性氣體泄漏，這不僅會造成導線腐蝕，而且這些腐蝕性氣體還會通過回風通道進入整個潔凈空間，造成散布擴散，從而影響了產品的質量。這種因為位于循環空間內的生產輔助設備泄漏而造成整個潔凈空間的污染事件時有發生。

[0005]針對上述問題，現有技術采用的方法是在潔凈室內設置化學過濾器，但由于潔凈室內的空間較大，很難做到完全清除，且該法的成本極高；這對于一些高端半導體的生產廠房(如32/28nm高端制程)是非常致命的，原因是高端半導體產品對腐蝕性氣體的含量要求更高。因此，開發一種能避免腐蝕性氣體影響的潔凈室，對于一些高端半導體的生產廠房具有積極的現實意義。

【發明內容】

[0006]本實用新型的目的是提供一種用于半導體廠房的潔凈室。

[0007]為達到上述發明目的，本實用新型采用的技術方案是:一種用于半導體廠房的潔凈室，包括新風輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間及回風通道；

[0008]所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間、潔凈空間和循環空間，架構空間和潔凈空間之間設有天花板，潔凈空間和循環空間之間設有高架地板和混凝土板；所述循環空間內設有生產輔助設備；

[0009]所述循環空間內設置生產輔助設備的區域的四周均設有隔板，使其構成獨立的密閉空間；循環空間內還設有連通管，連通管的一端與所述密閉空間連通，另一端與潔凈室的外界連通；

[0010]在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少I個回風柱，所述回風柱的頂端與架構空間連通，其底端與高架地板連通；

[0011]所述回風柱內設有風機。

[0012]上文中，所述循環空間內還設有連通管，其與所述密閉空間連通，從而當生產輔助設備產生泄漏時，可以通過連通管將腐蝕性氣體排出。在連通管的出口處，還可以設置洗滌塔。連通管上還可以設有閥門。

[0013]本實用新型通過設置隔板將循環空間內設置生產輔助設備的區域隔離出來，從而解決了生產輔助設備易產生泄漏的問題。然而，與此同時，由于循環空間的封閉設置，導致其上方的潔凈空間的氣流循環無法完成，因此，在潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設置多個回風柱，通過回風柱實現氣流循環。至于回風柱的數量，應當根據實際情況設定。

[0014]所述回風柱內設有風機。風機的作用是使其內的氣體向上流動，形成氣流循環。

[0015]由于回風柱的設置，其對應的潔凈空間可以順利的完成氣流循環，因此其兩側的回風通道就成了擺設，因此，可以將回風通道取消，改造成正常的潔凈空間使用，增加可用空間。

[0016]上述技術方案中，所述架構空間和高架地板內相對于所述密閉空間的位置均設有隔板，使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環境結構。

[0017]優選的，所述架構空間、高架地板和潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置均設有隔板，使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環境結構。

[0018]上述技術方案中，所述密閉空間的頂端設有密封板，所述密封板設于高架地板和混凝土板之間。

[0019]上述技術方案中，所述回風柱內設有干盤管。以進行溫度調節。在某些生產區域，設備發熱量低但潔凈風需求量多，造成實際需要通過干盤管的風量比真正通過的風量多，形成能源浪費。此時還可以在天花板上增設回風口，搭配回風柱內設置的干盤管，而獲得上述問題的較好解決。

[0020]由于上述技術方案運用，本實用新型與現有技術相比具有下列優點:

[0021]1、本實用新型設計得到了一種新的用于半導體廠房的潔凈室，通過設置隔板將循環空間內設置生產輔助設備的區域隔離出來，從而解決了生產輔助設備易產生泄漏的問題；與此同時，由于循環空間的封閉設置，導致其上方的潔凈空間的氣流循環無法完成，因此在潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設置多個回風柱，通過回風柱實現氣流循環，同時還充分利用了其內的潔凈空氣，而且降低了消耗；

[0022]2、本實用新型在循環空間內還設置了連通管，其與所述密閉空間連通，從而當生產輔助設備產生泄漏時，可以通過連通管將腐蝕性氣體排出；在連通管的出口處，還可以設置洗滌塔；從而較好地解決了生產輔助設備的泄漏問題，且避免了腐蝕性氣體影響的潔凈室;

[0023]3、本實用新型在架構空間和高架地板內相對于密閉空間的位置均設有隔板，使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環境結構，再配合其內的回風柱，構成了潔凈微環境結構，從而充分利用了其內的空間；且回風柱可以在潔凈微環境結構中形成微循環，不僅充分利用了其內的潔凈空氣，而且降低了消耗；

[0024]4、本實用新型在回風柱內設置干盤管，可以進行溫度調節；解決了某些生產區域設備發熱量低但潔凈風需求量多，造成實際需要通過干盤管的風量比真正通過的風量多而形成的能源浪費問題；

[0025]5、本實用新型的結構簡單，易于制備，適于推廣應用。

【專利附圖】

【附圖說明】

[0026]圖1是【背景技術】中的潔凈室的局部剖視圖；

[0027]圖2是本實用新型實施例一的局部剖視圖；

[0028]圖3是圖2的氣流示意圖；

[0029]圖4是本實用新型實施例二的局部剖視圖；

[0030]圖5是圖4的氣流示意圖。

[0031]其中:1、生產輔助設備；2、高架地板；3、混凝土板；4、架構空間；5、潔凈空間；6、循環空間；7、天花板；8、隔板；9、回風柱；10、風機；11、第二隔板；12、密封板；13、干盤管。

【具體實施方式】

[0032]下面結合附圖及實施例對本實用新型作進一步描述:

[0033]實施例一

[0034]參見圖2?3所示，一種用于半導體廠房的潔凈室，包括新風輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間及回風通道；

[0035]所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間4、潔凈空間5和循環空間6，架構空間和潔凈空間之間設有天花板7，潔凈空間和循環空間之間設有高架地板和混凝土板；所述循環空間內設有生產輔助設備；

[0036]所述循環空間內設置生產輔助設備的區域的四周均設有隔板8，使其構成獨立的密閉空間；循環空間內還設有連通管，連通管的一端與所述密閉空間連通，另一端與潔凈室的外界連通；

[0037]在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少I個回風柱9，所述回風柱的頂端與架構空間連通，其底端與高架地板連通；

[0038]所述回風柱內設有風機10。所述回風柱內設有干盤管13。

[0039]所述架構空間和高架地板內相對于所述密閉空間的位置均設有第二隔板11，使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環境結構。

[0040]所述密閉空間的頂端設有密封板12，所述密封板設于高架地板和混凝土板之間。

[0041]上文中，所述循環空間內還設有連通管，其與所述密閉空間連通，從而當生產輔助設備產生泄漏時，可以通過連通管將腐蝕性氣體排出。在連通管的出口處，還可以設置洗滌塔。連通管上還可以設有閥門。

[0042]本實用新型通過設置隔板將循環空間內設置生產輔助設備的區域隔離出來，從而解決了生產輔助設備易產生泄漏的問題。然而，與此同時，由于循環空間的封閉設置，導致其上方的潔凈空間的氣流循環無法完成，因此，在潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設置多個回風柱，通過回風柱實現氣流循環。至于回風柱的數量，應當根據實際情況設定。

[0043]所述回風柱內設有風機。風機的作用是使其內的氣體向上流動，形成氣流循環。

[0044]由于回風柱的設置，其對應的潔凈空間可以順利的完成氣流循環，因此其兩側的回風通道就成了擺設，因此，可以將回風通道取消，改造成正常的潔凈空間。

[0045]實施例二

[0046]參見圖4飛所示，一種用于半導體廠房的潔凈室，包括新風輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間及回風通道；

[0047]所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間、潔凈空間和循環空間，架構空間和潔凈空間之間設有天花板，潔凈空間和循環空間之間設有高架地板和混凝土板；所述循環空間內設有生產輔助設備；

[0048]所述循環空間內設置生產輔助設備的區域的四周均設有隔板8，使其構成獨立的密閉空間；循環空間內還設有連通管，連通管的一端與所述密閉空間連通，另一端與潔凈室的外界連通；

[0049]在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少I個回風柱，所述回風柱的頂端與架構空間連通，其底端與高架地板連通；

[0050]所述回風柱內設有風機。所述回風柱內設有干盤管。

[0051]所述架構空間、高架地板和潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置均設有第二隔板11，使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環境結構。

【權利要求】

1.一種用于半導體廠房的潔凈室，包括新風輸送系統、排氣系統和一大型潔凈空間及回風通道； 所述大型潔凈空間從上到下包括架構空間(4)、潔凈空間(5)和循環空間(6)，架構空間和潔凈空間之間設有天花板(7)，潔凈空間和循環空間之間設有高架地板(2)和混凝土板(3);所述循環空間內設有生產輔助設備；其特征在于: 所述循環空間內設置生產輔助設備的區域的四周均設有隔板(8)，使其構成獨立的密閉空間；循環空間內還設有連通管，連通管的一端與所述密閉空間連通，另一端與潔凈室的外界連通； 在所述潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置設有至少I個回風柱(9)，所述回風柱的頂端與架構空間連通，其底端與高架地板連通； 所述回風柱內設有風機(10)。

2.根據權利要求1所述的潔凈室，其特征在于:所述架構空間和高架地板內相對于所述密閉空間的位置均設有第二隔板(11)，使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環境結構。

3.根據權利要求2所述的潔凈室，其特征在于:所述架構空間、高架地板和潔凈空間內相對于所述密閉空間的位置均設有第二隔板，使所述密閉空間上方的架構空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構成獨立的潔凈微環境結構。

4.根據權利要求1所述的潔凈室，其特征在于:所述密閉空間的頂端設有密封板(12)，所述密封板設于高架地板和混凝土板之間。

5.根據權利要求1所述的潔凈室，其特征在于:所述回風柱內設有干盤管(13)。

【文檔編號】F24F7/10GK203783198SQ201420120184

【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年3月18日 優先權日:2014年3月18日

【發明者】楊政諭 申請人:亞翔系統集成科技（蘇州）股份有限公司